development
ソルテックの挑戦。
研究開発技術
研究開発事例: 2021年3月 狭小スペースへの微細文字彫刻【彫刻G】
彫刻文字位置精度の向上
研究開発の狙い・背景
少しの位置ズレで文字が範囲からはみ出すNGに対応するため。
行ったこと
既存の彫刻機に取り付けている顕微鏡の倍率を20倍から60倍に上げた。
結果
顕微鏡を見ながら位置精度の微調整が可能とになった。
考察
φ0.24のエジェクターピン先端に文字高さ0.15の彫刻加工が可能となった。
